1. 반도체용 Photo Resist 개발(ArF/EUV)
1) Photo Resist 조성 설계 및 핵심 원재료(Resin/PAG 등) 구조 Design
2) Litho 평가 DOE 수립 / 평가 Data 해석 / Trouble-Shooting
3) 제품 개발 관련 고객사 기술 지원(불량 원인 분석 등)
근무지 Location
세종시
처우조건 Condition
Negotiable(Pls. outline your current salary package and expectations.
Skills and Experience Required
학력 Education
재료, 화학, 고분자, 화학공학 계열 전공 석사 이상
경력 Career
1. 자격요건
1) 석사 이상으로, 유관 경력을 4~12년 이상 보유하신 분
2) 재료, 화학, 고분자, 화학공학 계열 전공하신 분 2. 우대사항 1) 반도체용 Photo Resist 개발 경력 또는 원재료 개발 경력 보유하신 분